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Heterogene Interdiffusion von nanokristallinen Cu/Co/Au-Schichten

dc.contributor.advisorSchmitz, Guido Dr.de
dc.contributor.authorLang, Christiande
dc.date.accessioned2002-01-30T15:29:06Zde
dc.date.accessioned2013-01-18T13:38:18Zde
dc.date.available2013-01-30T23:51:10Zde
dc.date.issued2002-01-30de
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11858/00-1735-0000-0006-B42D-4de
dc.identifier.urihttp://dx.doi.org/10.53846/goediss-2838
dc.description.abstractIn dieser Arbeit wurde die Interdiffusion dünner Schichten des Systems Cu/Au untersucht. In den Experimenten wurden mehrere hochauflösende analytische und mikroskopische Methoden verwendet. Der überwiegende Anteil der Untersuchungen wurde mit der Tomographischen Atomsonde (TAP) durchgeführt. Mit dieser Methode ist es möglich, eine zuverlässige chemische Analyse auf nm-Skala in allen drei Raumrichtungen zu erhalten. Diese Arbeit präsentiert die ersten Ergebnisse am System Cu/Au, die mit Hilfe der Tomographischen Atomsonde gewonnen wurden.Es konnte gezeigt werden, dass aufgrund der speziellen Probenpräparation, die Untersuchungen mit der Tomographischen Atomsonde erfordern, ein nanokristallines Gefüge innerhalb der dünnen Schichten entsteht. Wegen der hohen Dichte an schnellen Diffusionspfaden wie Korngrenzen und Triple Junctions, bildet sich in den Anfangsstadien der Interdiffusion ein komplexes dreidimensionales Reaktionsgefüge. Dessen Komplexität wird durch die Wanderung von Korngrenzen während der Korngrenzdiffusion (DIGM) zusätzlich vergrößert.In dieser Arbeit konnte die erste vollständige Nanoanalyse einer durch Interdiffusion angereicherten Triple Junction durchgeführt werden. Damit ist es möglich, die Diffusionskoeffizienten einer Triple Junction im Vergleich zu den anliegenden Korngrenzen zu bestimmen. Es zeigt sich, dass der Diffusionskoeffizient einer Triple Junction den einer Korngrenze um etwa 4 Größenordnungen übertrifft.Das Einfügen einer Diffusionsbarriere, die aus einer dünnen Co-Schicht besteht, verhindert eine frühzeitige vollständige Durchmischung der Cu- mit der Au-Schicht. Damit wird die Untersuchung der Interdiffusion zwischen Cu und Au zu höheren Temperaturen möglich, bei denen Diffusion nicht nur entlang der Korngrenzen und Triple Junctions, sondern auch innerhalb der Körner stattfindet. Wie die Ergebnisse zeigen, entsteht dadurch anstelle des komplexen Reaktionsgefüges eine homogene Durchmischung innerhalb der einzelnen Schichten.de
dc.format.mimetypeapplication/pdfde
dc.language.isogerde
dc.rights.urihttp://webdoc.sub.gwdg.de/diss/copyrdiss.htmde
dc.titleHeterogene Interdiffusion von nanokristallinen Cu/Co/Au-Schichtende
dc.typedoctoralThesis
dc.title.translatedHeterogenous interdiffusion of nanocrystalline Cu/Co/Au-layersde
dc.contributor.refereeKirchheim, Reiner Prof. Dr.de
dc.date.examination2001-10-30de
dc.subject.dnb530 Physikde
dc.description.abstractengThe interdiffusion of Cu/Au-thin films is investigated using several analytical and microscopical methods of high resolution. The main part of the experiments was carried out by means of the tomographic atomprobe (TAP). With this method a chemical analysis on a nm-scale is possible in three dimensions. This work presents the first results of thin film interdiffusion in the system Cu/Au that are obtained by the TAP.It is shown that the specific specimen preparation, which is required for atomprobe investigations, results in a nanocrystalline microstructure of the thin films. This corresponds to a high density of grain boundaries and triple junctions, both of which serve as fast diffusion paths for atomic transport. In this way initial interdiffusion leads to a complex three-dimensional reaction pattern. Its complexity is further increased by the migration of grain boundaries during grain boundary diffusion (DIGM).This work includes the first complete nanoanalys is of a triple junction that was enriched by an interdiffusion process. In this way it is possible to evaluate the diffusion coefficients of the triple junction and its neighbored grain boundaries. It was found that the diffusion coefficient of the triple junction exceeds that of the grain boundaries by four orders of magnitude.By the introduction of a diffusion barrier, which consists of a thin Co-layer, the interdiffusion of the Cu- and the Au-layer is slowed down and can therefore be investigated at higher temperatures. Hereby, diffusion is no longer restricted to grain boundaries and triple junctions since volume diffusion inside the grains is activated. In this way the complex reaction pattern is replaced by a homogenous mixing inside the single layers.de
dc.contributor.coRefereeSchröter, Wolfgang Prof. Dr.de
dc.subject.topicMathematics and Computer Sciencede
dc.subject.gerdünne Schichtende
dc.subject.gerDiffusionde
dc.subject.gerInterdiffusionde
dc.subject.gerDiffusionsbarrierede
dc.subject.gerKorngrenzdiffusionde
dc.subject.gerTriple Junctionde
dc.subject.gerDIGMde
dc.subject.gerCu/Aude
dc.subject.gerCu/Co/Aude
dc.subject.gerTomographische Atomsonde (TAP)de
dc.subject.gernanokristalline Materialiende
dc.subject.engthin filmsde
dc.subject.engdiffusionde
dc.subject.enginterdiffusionde
dc.subject.engdiffusion barrierde
dc.subject.enggrain boundary diffusionde
dc.subject.engtriple junctionde
dc.subject.engDIGMde
dc.subject.engCu/Aude
dc.subject.engCu/Co/Aude
dc.subject.engtomographic atomprobe (TAP)de
dc.subject.engnanocrystalline materialsde
dc.subject.bk33.60 51.10de
dc.identifier.urnurn:nbn:de:gbv:7-webdoc-1193-5de
dc.identifier.purlwebdoc-1193de
dc.affiliation.instituteFakultät für Physikde
dc.subject.gokfullRVde
dc.identifier.ppn341955094


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