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Untersuchung der lokalen strukturellen und elektronischen Eigenschaften von Fe-GaAs Schottky-Kontakten mit atomar aufgelöster Raster-Tunnel-Mikroskopie in Querschnittsgeometrie

dc.contributor.advisorUlbrich, Rainer G. Prof. Dr.de
dc.contributor.authorWinking, Lars-Helgede
dc.date.accessioned2009-11-03T15:31:00Zde
dc.date.accessioned2013-01-18T13:40:43Zde
dc.date.available2013-01-30T23:51:12Zde
dc.date.issued2009-11-03de
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11858/00-1735-0000-0006-B49A-Ede
dc.identifier.urihttp://dx.doi.org/10.53846/goediss-2899
dc.identifier.urihttp://dx.doi.org/10.53846/goediss-2899
dc.description.abstractIm Zentrum der vorliegenden Arbeit steht die Untersuchung des Zusammenspiels zwischen den lokalen strukturellen Eigenschaften und den nanoskaligen elektronischen Eigenschaften von Metall-Halbleiter Übergängen. Um derartige Zusammenhänge erstmals im Realraum auf der atomaren Skala studieren zu können, wird die Methode der Raster-Tunnel-Mikroskopie und -Spektroskopie in Querschnittsgeometrie eingesetzt. Als prototypisches Modellsystem mit nahezu idealer Gitteranpassung wird das Probensystem Fe-GaAs{110} untersucht.Anhand von atomar aufgelösten XSTM Topografien des Metall-Halbleiter Übergangsbereichs wird zunächst die atomare Struktur des GaAs Substrats bis hin zur Metall-Halbleiter Grenzfläche im Realraum aufgeklärt. Die Untersuchungen zeigen, dass durch ein in zwei Schritten ablaufendes Präparationsverfahren (Deposition des ultradünnen Fe-Films bei einer Substrattemperatur von 130(5) K, anschließendes Annealen der Probe bis auf Raumtemperatur) Reaktionen an der Fe-GaAs{110} Grenzfläche erstmals effektiv unterdrückt werden können.Der Zusammenhang zwischen den strukturellen Eigenschaften des idealen Fe-GaAs{110} Schottky-Kontakts und den lokalen elektronischen Eigenschaften wird durch STS Messungen in Querschnittsgeometrie untersucht. Anhand des Verlaufs der differentiellen Leitfähigkeit im Energiebereich der GaAs Bandlücke wird nachgewiesen, dass sich das System durch ein Kontinuum von Bandlückenzuständen an der Grenzfläche auszeichnet. Es wird gezeigt, dass die charakteristische Schottky-Barrierenhöhe durch den Vergleich von experimentellen XSTS Daten mit 3D FEM Simulationen unter Berücksichtigung der spitzeninduzierten Bandverbiegung bestimmt werden kann. Im Fall des idealen Fe-GaAs{110} Schottky-Kontakts liegt sie mit 0,92(3) eV deutlich über den Werten von konventionell gewachsenen Fe-GaAs{110} Schottky-Kontakten. Sowohl die Schottky-Barrierenhöhe als auch die Eigenschaften der Bandlückenzustände werden vor dem Hintergrund verschiedener theoretischer Modelle der Schottky-Barrierenformierung diskutiert.Darüber hinaus wird gezeigt, dass es durch die Verknüpfung von XSTS Daten mit FEM Simulationen erstmals möglich ist, die Auswirkungen der diskreten Verteilung von Dotieratomen auf die Potentiallandschaft in der Raumladungszone eines Schottky-Kontakts im Realraum zu untersuchen.de
dc.format.mimetypeapplication/pdfde
dc.language.isogerde
dc.rights.urihttp://webdoc.sub.gwdg.de/diss/copyr_diss.htmlde
dc.titleUntersuchung der lokalen strukturellen und elektronischen Eigenschaften von Fe-GaAs Schottky-Kontakten mit atomar aufgelöster Raster-Tunnel-Mikroskopie in Querschnittsgeometriede
dc.typedoctoralThesisde
dc.title.translatedInvestigation of the structural and local electronic properties of Fe-GaAs Schottky contacts with atomically resolved Scanning Tunneling Microscopy in Cross-sectional configurationde
dc.contributor.refereeKirchheim, Reiner Prof. Dr.de
dc.date.examination2009-01-29de
dc.subject.dnb530 Physikde
dc.description.abstractengIn this paper we present the first real space investigation of the Fe-GaAs{110} interface with Scanning Tunneling Microscopy and Spectroscopy across the interface. This new approach enables us to explore the structural as well as the electronic properties of metal-semiconductor interfaces with atomic resolution.XSTM topographies of the Fe-GaAs{110} interface demonstrate that a two-step growth process (deposition of the thin Fe-film at a substrate temperature of 130(5) K and subsequent annealing to room temperature) leads for the first time to an abrupt and defect-free interface. Spatially resolved IU-Spectroscopy acquired simultaneously with the constant current image of the heterointerface allows direct linking of the atomic structure to spatially varying electronic properties, e.g. the variation of the local electrostatic potential in the GaAs space charge layer due to the discrete distribution of dopant atoms. Maps of the differential conductivity in the energy range of the GaAs band-gap demonstrate a continuum of gap-states in the interface region. The characteristic Schottky barrier height can be determined by comparing experimental data to 3D FEM simulations including the effect of tip-induced band bending. In contrast to conventionally grown Fe-GaAs systems the ideal Fe-GaAs{110} Schottky contact exhibit a substantially higher barrier of 0,92(3) eV. This difference as well as the observed properties of the gap-states are discussed in terms of different theoretical models of the Schottky barrier formation.de
dc.subject.topicMathematics and Computer Sciencede
dc.subject.gerSTMde
dc.subject.gerSTSde
dc.subject.gerQuerschnittsgeometriede
dc.subject.gerFede
dc.subject.gerGaAsde
dc.subject.geridealer Schottky-Kontaktde
dc.subject.gerBandlückenzuständede
dc.subject.gerBarrierenhöhede
dc.subject.gerFEM-Simulationde
dc.subject.gerspitzeninduzierte Bandverbiegungde
dc.subject.engSTMde
dc.subject.engSTSde
dc.subject.engCross-sectionalde
dc.subject.engFede
dc.subject.engGaAsde
dc.subject.engideal Schottky contactde
dc.subject.enggap-statesde
dc.subject.engbarrier heigtde
dc.subject.engFEM simulationde
dc.subject.engtip-induced band bendingde
dc.subject.bk33.05de
dc.subject.bk33.61de
dc.subject.bk33.68de
dc.identifier.urnurn:nbn:de:gbv:7-webdoc-2252-4de
dc.identifier.purlwebdoc-2252de
dc.affiliation.instituteFakultät für Physikde
dc.subject.gokfullRVC 200: Kristallwachstum {Physik: Kondensierte Materie}de
dc.subject.gokfullRVQ 220: Fremdatome {Physik: Halbleiter-Störstellen}de
dc.subject.gokfullRVQ 475: Halbleiter-Randschichtende
dc.subject.gokfullp-n-Übergänge {Physik: Elektrischede
dc.subject.gokfullmagnetische und optische Eigenschaften}de
dc.subject.gokfullRVQ 500: Oberflächen von Halbleitern {Physik}de
dc.identifier.ppn615326056de


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