Hydrogen in V-Fe thin films and Fe/V-Fe multi-layered thin films
Wasserstoff in V-Fe dünnen Schichten und V-Fe/Fe mehrfachschchten
von Ryota Gemma
Datum der mündl. Prüfung:2011-05-04
Erschienen:2011-11-25
Betreuer:Prof. Dr. Astrid Pundt
Gutachter:Prof. Dr. Reiner Kirchheim
Gutachter:Prof. Dr. Hans Christian Hofsäss
Gutachter:PD Dr. Michael Seibt
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Format:PDF
Description:Dissertation
Zusammenfassung
Englisch
In this thesis, hydrogen induced biaxial stress and local distribution of hydrogen in V-Fe films and V-Fe/Fe multi-layered films were investigated. The stress development and stress relaxation behavior in the films were interpreted via combination of in-situ stress, in-situ acoustic emission and in-situ XRD measurements. Stress development of the V-Fe thin films thinner than 100 nm showed remarkable correlation with defect-H interaction at very low concentrations. With increasing H-concentration, intermittent stress relaxation due to rearrangement of intrinsic misfit dislocation was detected until the film relaxes at the stage of hydride formation. The V-Fe/Fe multi-layered film showed giant tensile stress upon hydrogen loading, which was considered by preferential site occupation of hydrogen in the lattice. Atom probe tomography analysis successfully showed deuterium distribution in the films on atomic scale. Determination of correct D-concentration and its three-dimensional mapping were demonstrated via newly designed loading procedure. Local enrichment of D atoms at the interface between the film and substrate was observed as a result of D-trapping at dislocations. Analysis of multi-layered films however revealed deuterium-depleted region of 0.4 1.0 nm at V-Fe/Fe interface.
Keywords: Thin films; Hydrogen; Vanadium; Multilayer; Stress; Acoustic emission; Atom probe tomography
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In dieser Arbeit Wasserstoff induzierte zweiachsige Spannung und lokale Verteilung von Wasserstoff in V-Fe-Filme und V-Fe/Fe-mehrfachschichtigen Filme wurden untersucht. Der Spannung Entwicklung und Relaxationsverhalten in den Filmen wurden durch Kombination von in-situ Spannung, in-situ Schallemission und in-situ XRD-Messungen interpretiert. Die Spannung Entwicklung von V-Fe dünnen Schichten dünner als 100 nm zeigte bemerkenswerte Korrelation mit Defekt-H-Wechselwirkung bei sehr niedrigen Konzentrationen. Mit zunehmender H-Konzentration, intermittierende Spannungsrelaxation aufgrund Wiederherstellung der intrinsischen Versetzungen festgestellt wurde, bis der Film entspannt auf der Stufe der Hydridbildung. Die V-Fe/Fe mehrfachschichtige Filme zeigte riesigen Zugspannung auf Wasserstoff geladen, die durch bevorzugte Ort Besetzung von Wasserstoff in das Gitter betrachtet wurde. Atomsondentomographie Analyse erfolgreich zeigte Deuterium Verteilung in den Filmen auf atomarer Skala. Bestimmung des richtigen D-Konzentration und die drei-dimensionale Verteilung wurden über neu gestaltete Methode unter Beweis gestellt. Lokale Anreicherung von D-Atomen an der Grenzfläche zwischen Film und Substrat wurde als Ergebnis der D-Trapping auf Versetzungen beobachtet. Die Analyse der mehrfachschichtigen Filmen ergab jedoch, Deuterium verarmten Region von 0,4 bis 1,0 nm bei V-Fe/Fe Grenzfläche.
Schlagwörter: Dünne Schichten; Wasserstoff; Vanadium; Mehrfachschichten; Spannungen; Schallemission; Atomsondentomographie