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Ionenstrahlunterstütztes Wachstum von Zinn-dotierten Indiumoxid-Filmen

dc.contributor.advisorFreyhardt, Herbert C. Prof. Dr.de
dc.contributor.authorThiele, Karolade
dc.date.accessioned2004-05-24T15:33:00Zde
dc.date.accessioned2013-01-18T13:39:00Zde
dc.date.available2013-01-30T23:51:11Zde
dc.date.issued2004-05-24de
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11858/00-1735-0000-0006-B553-Fde
dc.identifier.urihttp://dx.doi.org/10.53846/goediss-2856
dc.description.abstractIn der vorliegenden Arbeit wurden die optischen, elektrischen und mikrostrukturellen Eigenschaften mittels ionenstrahlunterstützter Deposition (IBAD) hergestellter Zinn-dotierter Indiumoxid- (ITO) Filme untersucht, um zum einen herauszufinden, ob mit dieser Depositionsmethode bei niedrigen Substrattemperaturen glatte Filme mit guten optischen und elektrischen Eigenschaften hergestellt werden können, und zum anderen die Texturierungsmechanismen an diesem Material zu untersuchen.Der Beschuss mit 300 eV Argonionen führt bereits bei Raumtemperatur zu kristallinen Filmen, die in Wachstumsrichtung (out-of-plane) eine ausgeprägte (001)-Vorzugsorientierung besitzen. Diese Filme haben hohe Druckspannungen und eine hohe Defektdichte, die zu einer Erhöhung des spezifischen Widerstands gegenüber polykristallinen Filmen führt, auf die Transmission im sichtbaren Bereich aber keinen Einfluss hat. Die Filme sind glatt und zeigen bei geeigneten Depositionsparametern eine ausgeprägte in-plane Textur, was in anschließend deponierten YBa2Cu3O7-d- (YBCO) Filmen zu einer kritischen Stromdichte von bis zu 0,76 MA/cm2 führt. Transmissionselektronenmikroskopische Untersuchungen zeigen eine scharfe Grenzfläche ohne Bildung von Zwischenschichten. Zusammen zeigt dies, dass ITO als epitaxiefähige Diffusionsbarriere für YBCO geeignet ist.Die Texturausbildung in IBAD-ITO beginnt mit zum Ionenstrahl sehr ausgeprägt ausgerichteten Kristalliten in einer amorphen Matrix, die dann mit Fehlorientierungen kristallisiert, was zu einer scheinbaren Degradation der Textur führt. Anschließend erfolgt eine Wachstumsauslese, die zu einer exponentiellen Texturverbesserung führt. Die anisotrope Defektbildung wird als wahrscheinlich dominanter Wachstumsmechanismus diskutiert.Ausgehend von der Texturausbildung in ITO wurden Zusammenhänge der Texturierbarkeit verschiedener Materialien, die in CaF2- oder verwandter Struktur vorliegen, diskutiert. Es konnte eine empirische Abhängigkeit der Texturierbarkeit von der Anzahl der strukturellen Sauerstoffleerstellen gefunden werden. Eine Korrelation dieser Anzahl mit dem präferentiellen Abtrag des Sauerstoffuntergitters für bestimmte Kristallrichtungen in Yttrium-stabilisiertem Zirkonoxid und der Stabilität verschieden stark geordneter Strukturen unter Teilchenbeschuss ist wahrscheinlich und legt eine weitere winkelabhängige Untersuchung ausgewählter Materialien nahe.de
dc.format.mimetypeapplication/pdfde
dc.language.isogerde
dc.rights.urihttp://webdoc.sub.gwdg.de/diss/copyrdiss.htmde
dc.titleIonenstrahlunterstütztes Wachstum von Zinn-dotierten Indiumoxid-Filmende
dc.typedoctoralThesisde
dc.title.translatedIon beam assisted growth of tin-doped indium oxide filmsde
dc.contributor.refereeHofsäss, Hans Christian Prof. Dr.de
dc.date.examination2004-03-26de
dc.description.abstractengIn this work the optical, electrical and microstructural properties of tin-doped indium oxide (ITO) thin films deposited by ion beam assisted deposition (IBAD) were investigated. One aim was to determine if this deposition method was suitable for obtaining smooth films with good optical and electrical properties at low deposition temperatures, the other was to determine the texturing mechanisms for this material.Bombarding the growing film with 300 eV Ar-ions leads to crystalline films that show a distinct (001)-growth direction already at room temperature. These films exhibit high strain and a high density of defects which leads to an increase of the specific resistance compared with polycrystalline films but has no effect on the transmission in the visible range. Using suitable deposition conditions the films are smooth and show a distinct in-plane texture, which enables subsequently deposited YBa2Cu3O7-d- (YBCO) thin films to exhibit critical currents up to 0.76 MA/cm2. Investigations carried out with a transmission electron microscope show an exact interface without any intermediate layers. These results show that ITO is an appropriate diffusion barrier for YBCO.The texture development in IBAD-ITO starts with crystallites in an amorphous matrix that are very sharply aligned with the ion beam. The matrix then crystallizes with misaligned orientations which results in an apparently degradation of texture followed by a growth selection which exhibits an exponential improvement of texture. The anisotropic generation of defects is discussed as a probable growth mechanism.Starting from the texture formation in ITO the correlation of the texturability of different materials having CaF2- and similar structure is discussed. An empirical dependence of the texturability on the number of structural oxygen vacancies could be found. A correlation of this number with the preferential ion etching of the oxygen sublattice for distinct crystal orientations in yttria stabilized zirconia and the stability of differently high ordered structures under particle bombardment is probable and suggests a further angle dependent investigation of selected materials.de
dc.contributor.coRefereeKrebs, Hans-Ulrich Prof. Dr.de
dc.contributor.thirdRefereeSeibt, Michael PD Dr.de
dc.subject.topicMathematics and Computer Sciencede
dc.subject.gerIndium Zinn Oxidde
dc.subject.gerITOde
dc.subject.gerdünne Schichtende
dc.subject.gerionenstrahlunterstützte Depositionde
dc.subject.gerIBADde
dc.subject.gerMikrostrukturde
dc.subject.gerWachstumsmechanismende
dc.subject.gerelektrische Leitfähigkeitde
dc.subject.gerYBCOde
dc.subject.ger530 Physikde
dc.subject.engindium tin oxidede
dc.subject.engITOde
dc.subject.engthin filmsde
dc.subject.engion beam assisted depositionde
dc.subject.engIBADde
dc.subject.engmicrostructurede
dc.subject.enggrowth mechanismsde
dc.subject.engelectrical conductivityde
dc.subject.engYBCOde
dc.subject.bk33.61de
dc.subject.bk33.68de
dc.subject.bk33.79de
dc.subject.bk33.72de
dc.identifier.urnurn:nbn:de:gbv:7-webdoc-354-1de
dc.identifier.purlwebdoc-354de
dc.affiliation.instituteFakultät für Physikde
dc.subject.gokfullRVC 200: Kristallwachstum {Physik: Kondensierte Materie}de
dc.subject.gokfullRVS 700: Mikrostruktur Gefüge- {Physik}de
dc.subject.gokfullRVQ 700: Bestrahlungseffekte in Halbleitern {Physik}de
dc.identifier.ppn39193712Xde


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