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Lanthanide Doped Wide Band Gap Semiconductors: Intra-4f Luminescence and Lattice Location Studies

dc.contributor.advisorHofsäss, Hans Christian Prof. Dr.de
dc.contributor.authorVetter, Ulrichde
dc.date.accessioned2004-03-03T15:33:01Zde
dc.date.accessioned2013-01-18T13:39:09Zde
dc.date.available2013-01-30T23:51:11Zde
dc.date.issued2004-03-03de
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11858/00-1735-0000-0006-B555-Bde
dc.identifier.urihttp://dx.doi.org/10.53846/goediss-2860
dc.description.abstractDas Dotieren von Halbleitern mit Lanthaniden ist ein vielversprechender Weg zur Realisisierung von Lichtemittern, deren Lumineszenz von strahlenden Elektronenübergängen innerhalb der 4f-Schale der dreifach ionisierten Lanthanide herrührt. Während in der Vergangenheit der Schwerpunkt auf Halbleitern mit verhältnismäßig kleinen Bandlücken lag, was die Implementierung von infraroten und sichtbaren Lichtemittern erlaubte, erweitert die Verwendung von Halbleitern mit großer Bandlücke die Anwendungen potenziell um ultraviolette Lichtquellen.Der Schwerpunkt dieser Arbeit liegt dabei auf den Halbleitern mit der jeweils größten momentan bekannten Bandlücke ihrer jeweiligen Gruppe. Diese werden repäsentiert durch Aluminiumnitrid und kubisches Bornitrid im Falle der III-V Nitridhalbleiter, sowie Diamant und 6H-Siliziumkarbid im Falle der IV-IV Karbidhalbleiter. Die Methode der Wahl zur Dotierung war hierbei die Ionenimplantation, bevorzugt mit niedrigen Ionendosen, dabei den Implantationsschaden so gering wie möglich haltend. Dies stellte darüber hinaus sicher, daß die Lanthanide Verunreinigungen darstellen, die weder die Eigenschaften des Wirts noch sich selbst gegenseitig wesentlich beeinflussen. Um die Lumineszenzeigenschaften der dreifach ionisierten Lanthanide zu verstehen, wird eine komprimierte Darstellung der theoretischen Grundlagen gegeben. Die dreifach ionisierten Lanthanide werden entsprechend ihrer Energieniveauschemata und Übergangswahrscheinlichkeiten klassifiziert, der Schwerpunkt liegt hierbei auf Eu3+, Tm3+ und Gd3+, die als Lumineszenzsonden in dieser Arbeit Verwendung finden. Experimente, die die Methode des Emissionschanneling zur Gitterplatzbestimmung der Lanthanide in 2H-AlN, c-BN, Diamand sowie 3C-, 4H-, und 6H-SiC anwenden, wurden mit dem Schwerpunkt auf neuen radioaktiven Sondenisotopen durchgeführt. Die Kathodolumineszenzeigenschaften von Thulium- und Europium-imlantiertem AlN, c-BN, Diamant und 6H-SiC wurden untersucht, ergänzt durch Untersuchungen von Gadolinium in AlN. Des Weiteren wurden die wichtigsten Intra-4f Übergänge von Eu3+, Tm3+ und Gd3+ mittels zeitaufgelöster Kathodolumineszenzspektroskopie untersucht. Jene Systeme, die sich für eine Kristallfelduntersuchung eignen, wurden identifiziert. Diese Analyse wurde durchgeführt auf der Basis von hochauflösenden Starkniveauspektren, um die Symmetrie der Ligandenkonfiguration um die Ionen im Halbleiterwirtsgitter zu bestimmen. Zusätzlich werden die Intensitäten einiger ausgewählter Intra-4f Übergänge besprochen.de
dc.format.mimetypeapplication/pdfde
dc.language.isoengde
dc.rights.urihttp://webdoc.sub.gwdg.de/diss/copyrdiss.htmde
dc.titleLanthanide Doped Wide Band Gap Semiconductors: Intra-4f Luminescence and Lattice Location Studiesde
dc.typedoctoralThesisde
dc.title.translatedLanthanid-dotierte Halbleiter mit großer Bandlücke: Intra-4f Lumineszenz- und Gitterplatzuntersuchungende
dc.contributor.refereeHofsäss, Hans Christian Prof. Dr.de
dc.date.examination2003-07-15de
dc.description.abstractengThe doping of semiconductors with lanthanides is a promising way to realize light emitters, their luminescence arising from radiative electron transitions within the 4f shell of the triply ionized lanthanides. While in the past the focus was on semiconductors with relatively small band gaps, which allowed the implementation of infrared and visible light emitters, the use of wide band gap semiconductors potentially extends the applications to ultraviolet light sources.This work focuses on those semiconductors with the widest currently known band gap of their respective group. These are represented by aluminum nitride and cubic boron nitride for the group of III-V nitride semiconductors, as well as diamond and 6H-silicon carbide for the group of IV-IV carbide semiconductors. The method of choice for doping these semiconductors with lanthanides was ion implantation, preferably with low ion fluences, thereby keeping implantation damage as low as possible. This also ensured that the lanthanides represent impurities, that neither alter the host s properties nor significantly influence each other. In order to explain the luminescence properties of the triply ionized lanthanides, a condensed presentation of the theoretical fundamentals is given. The triply ionized lanthanides are classified according to their energy level structure and transition probabilities, with a focus on Eu3+, Tm3+, and Gd3+, which were used as luminescence probes in this work. Experiments applying the emission channeling technique to identify lattice sites for lanthanides in 2H-AlN, c-BN, diamond as well as 3C-, 4H-, and 6H-SiC were performed, concentrating on new radioactive probe isotopes. The cathodoluminescence properties of thulium- and europium- implanted AlN, c-BN, diamond and 6H-SiC were investigated and complemented by investigations on gadolinium in AlN. Furthermore, the most significant intra-4f electron transitions of Eu3+, Tm3+, and Gd3+ were characterized by time-resolved cathodoluminescence spectroscopy. Those systems for which a crystal field analysis based on luminescence spectra is possible were identified. This analysis was performed on the basis of high-resolution Stark level spectra, in order to determine the symmetry of the ligands configuration around the ions in the semiconductor host matrix. Additionally intensities of some selected intra-4f electron transitions are discussed.de
dc.contributor.coRefereeUlbrich, Rainer G. Prof. Dr.de
dc.subject.topicMathematics and Computer Sciencede
dc.subject.gerLanthanidede
dc.subject.gerKathodoluminesznezde
dc.subject.gerintra-4f Elektronenübergängede
dc.subject.gerEuropiumde
dc.subject.gerThuliumde
dc.subject.gerGadoliniumde
dc.subject.gerHalbleiter mit großer Bandlückede
dc.subject.gerAluminiumnitridde
dc.subject.gerkubisches Bornitridde
dc.subject.gerSiliziumkarbidde
dc.subject.gerDiamantde
dc.subject.gerdünne Schichtende
dc.subject.gertetraedrischer amorpher Kohlenstoffde
dc.subject.gerLichtemitterde
dc.subject.gerStarkniveau-Spektroskopiede
dc.subject.gerKristallfeldanalysede
dc.subject.gerKathodolumineszenzde
dc.subject.gerEnergiematrixde
dc.subject.gerJudd-Ofelt-Theoriede
dc.subject.gerIonenimplantationde
dc.subject.germassenselektierte Ionenstrahldepositionde
dc.subject.gerEmissionschannelingde
dc.subject.gerGitterplatzde
dc.subject.gerMössbauerspektroskopiede
dc.subject.gerradioaktive Lanthanidisotopede
dc.subject.ger530 Physikde
dc.subject.englanthanidesde
dc.subject.engcathodoluminescencede
dc.subject.engintra-4f electron transitionsde
dc.subject.engeuropiumde
dc.subject.engthuliumde
dc.subject.enggadoliniumde
dc.subject.engwide band gap semiconductorsde
dc.subject.engaluminum nitridede
dc.subject.engcubic boron nitridede
dc.subject.engsilicon carbidede
dc.subject.engdiamondde
dc.subject.engthin filmsde
dc.subject.engtetrahedral amorphous carbonde
dc.subject.englight emittersde
dc.subject.engStark level spectroscopyde
dc.subject.engcrystal field analysisde
dc.subject.engenergy matrixde
dc.subject.engJudd-Ofelt theoryde
dc.subject.engion implantationde
dc.subject.engmass-selected ion beam depositionde
dc.subject.engemission channelingde
dc.subject.englattice locationde
dc.subject.engMössbauer spectroscopyde
dc.subject.engradioactive lanthanide isotopesde
dc.subject.bk33.60de
dc.subject.bk33.30de
dc.subject.bk33.07de
dc.subject.bk33.06de
dc.subject.bk33.43de
dc.subject.bk33.72de
dc.identifier.urnurn:nbn:de:gbv:7-webdoc-363-1de
dc.identifier.purlwebdoc-363de
dc.affiliation.instituteFakultät für Physikde
dc.subject.gokfullRQP 400: Lumineszenz {Physik: Quantentheorie der Emission und Absorption von Strahlung}de
dc.subject.gokfullRQI 900: Ionenstrahlen {Physik: Korpuskularstrahlen}de
dc.subject.gokfullRTF 400: Ionenimplantation {Physik}de
dc.subject.gokfullRTG 400: Anregung von Atomende
dc.subject.gokfullatomare Energiezustände {Atomphysik}de
dc.subject.gokfullRTJ 160: Anwendungen radioaktiver Isotope {Kernphysik}de
dc.subject.gokfullRRJ 000: Emissions-de
dc.subject.gokfullAbsorptionsspektroskopie {Physik}de
dc.subject.gokfullRRP 000: Mössbauer-Spektroskopie {Physik}de
dc.subject.gokfullRVQ 000: Halbleiter {Physik}de
dc.subject.gokfullRVQ 220: Fremdatome {Physik: Halbleiter-Störstellen}de
dc.subject.gokfullSTL 450: Lanthanoide {Anorganische Chemie}de
dc.identifier.ppn386174113de


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